原子吸收光譜儀正常運(yùn)行需具備的幾點(diǎn)要素

　　原子吸收光譜儀正常運(yùn)行需具備的幾點(diǎn)要素
　　原子吸收光譜儀是從光源輻射出具有待測(cè)元素特征譜線的光，通過(guò)試樣蒸氣時(shí)被蒸氣中待測(cè)元素基態(tài)原子所吸收，由輻射特征譜線光被減弱的程度來(lái)測(cè)定試樣中待測(cè)元素的含量。因原子吸收光譜儀的靈敏、準(zhǔn)確、簡(jiǎn)便等特點(diǎn)，現(xiàn)已廣泛用于冶金、地質(zhì)、采礦、石油、輕工、農(nóng)業(yè)、醫(yī)藥、衛(wèi)生、食品及環(huán)境監(jiān)測(cè)等方面的常量及微痕量元素分析。
　　原子吸收光譜儀的安裝主要包括對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境、電源、氣體、水源、溶液等方面的要求。
　　1、實(shí)驗(yàn)室環(huán)境條件
　　用于安裝儀器的實(shí)驗(yàn)室應(yīng)具備良好的外部環(huán)境。實(shí)驗(yàn)室應(yīng)設(shè)置在附近無(wú)強(qiáng)電磁場(chǎng)和強(qiáng)熱輻射源的地方，不宜建在會(huì)產(chǎn)生劇烈震動(dòng)的設(shè)備和車間附近，應(yīng)避免日光直射、煙塵、污濁氣流及水蒸氣的影響。原子吸收實(shí)驗(yàn)室必須和化學(xué)處理室及發(fā)射光譜實(shí)驗(yàn)室分開，以防酸氣侵蝕和強(qiáng)磁場(chǎng)干擾。
　　實(shí)驗(yàn)室的內(nèi)部環(huán)境應(yīng)經(jīng)常保持清潔和溫度、濕度適宜。室內(nèi)空氣相對(duì)濕度應(yīng)該在10%~70%，對(duì)于南方潮濕地區(qū)建議安裝除濕機(jī)。室內(nèi)溫度應(yīng)控制在10℃~30℃，建議至好安裝空調(diào)。
　　2、實(shí)驗(yàn)室電源要求
　　實(shí)驗(yàn)室應(yīng)配有交流380V三相四線制動(dòng)力電源，其進(jìn)線至好為銅線，線徑不低于4mm 。同時(shí)具有可靠的接地線，如果電源進(jìn)線沒有地線，建議由專業(yè)的電工采用近埋設(shè)地線的方法引入地線。在使用過(guò)程中原子吸收主機(jī)的電源應(yīng)與空壓機(jī)、石墨爐的電源分相使用，以避免互相干擾。因此，建議采用配電盤的方式，分相引出各相電源。具體要求如下:
　　原子吸收主機(jī)使用一相，要求220V±10%/5A，當(dāng)電壓變化超過(guò)規(guī)定要求時(shí)，應(yīng)配有凈化穩(wěn)壓器，功率要求大于1.5KW，電源插座上要有地線。
　　空壓機(jī)使用一相，要求AC220V/10A，與主機(jī)相線分開使用，以避免空壓機(jī)啟動(dòng)時(shí)對(duì)主機(jī)的干擾?？諌簷C(jī)使用相線無(wú)須穩(wěn)壓;
　　當(dāng)配有石墨爐電源時(shí)，使用第三相火線，與空壓機(jī)、主機(jī)相線必須分開使用。要求AC220V±10%/25A，其功率不小于5KVA，配電盤應(yīng)裝有空氣保護(hù)開關(guān)，容量50A~60A，且石墨爐電源空氣開關(guān)與主機(jī)等開關(guān)分開控制保護(hù)。石墨爐電源采用380V/25A的三相五線電源插座引出。
　　3、氣源要求
　　空氣:空壓機(jī)氣體出口壓力應(yīng)在0.25-3.0Mpa。
　　乙炔氣:出口壓力應(yīng)在0.05MPa-0.08MPa，純度99.9%，乙炔鋼瓶必須配有乙炔壓力表。乙炔燃?xì)怃撈恐梁貌灰旁谠游罩鳈C(jī)房間內(nèi)，要放在離主機(jī)至近的安全禁煙火的房間，但主機(jī)房間內(nèi)必須設(shè)有氣路開關(guān)閥，萬(wàn)一發(fā)生事故可迅速切斷燃?xì)狻?/div>
　　氬氣:氬氣出口壓力應(yīng)在0.5MPa-0.6MPa之間，純度為99.99%。石墨爐部分需用氬氣作為保護(hù)氣體，氬氣鋼瓶必須配有氧氣壓力表。
　　4、水源要求
　　當(dāng)配有石墨爐系統(tǒng)時(shí)，需要冷卻水，流量應(yīng)大于2.0L/min。有條件的用戶可以配一臺(tái)冷卻循環(huán)水裝置，節(jié)約用水。建議水源至好不要設(shè)置在原子吸收主機(jī)房間內(nèi)。
　　5、溶液要求
　　空白去離子水; 2.優(yōu)級(jí)純硝酸; 3.銅標(biāo)液:100ug/ml;鎘標(biāo)液:100ug/ml。
　　在做氫化物時(shí)還需準(zhǔn)備下列溶液及藥品:硼氫化鉀(KBH4)氫氧化鈉(NaHO)砷標(biāo)液，碘化鉀(KI)溶液，抗壞血酸粉，鹽酸溶液。